Автор дизайна: ОЭЗ "Технополис Москва"
Производитель: НИУ МИЭТ
Регион: Москва
Описание проекта: В рамках развития кластера фотоники и микроэлектроники Правительство Москвы совместно с Минпромторгом России, Минобрнауки России и НИУ МИЭТ реализует проект по созданию в ОЭЗ «Технополис Москва» на площадке «Алабушево» уникального производства фотошаблонов размером 45-28 нанометров. В шестиэтажном корпусе площадью в 14,5 тысяч кв. метров будет создано около 300 рабочих мест.
Экономический эффект: 1. Создание новых рабочих мест 2. Запуск первого в России производства фотошаблонов размеров 45-28 нанометров 3. Создание новой производственной инфраструктуры
Художественная значимость: В архитектурных приемах решений фасадов выполнены требования ПД «Дизайн-код территории Особой экономической зоны «Технополис «Москва» площадка «Алабушево», а именно: объединение окон ворот по вертикали и с выделением его более темным оттенком, вертикальная разрезка фасадных панелей; отбивка первого этажа по материалу от верхнего объема, создание эффекта ряби разными монохромными оттенками фасадных панелей; создание «рифленности» поверхности фасадными панелями на пространственной подсистеме; выделение цветом элементов конструкций, раскрепованных частей фасадов, торцов, граней здания, врезанных отличающихся по форме частей здания, ниш входных групп; выделение цветом элементов конструкций, раскрепованных частей фасадов, торцов, граней здания, врезанных отличающихся по форме частей здания, ниш входных групп; брандмауэрная стена из керамического кирпича (цвет красный).